HI,欢迎来到学术之家,发表咨询:400-888-7501  订阅咨询:400-888-7502  股权代码  102064
0

进口中间品技术溢出的技术差距门槛效应分析——基于中国中低技术产业数据

作者:宋艳丽 王九云 成力为中低技术产业进口中间品技术差距门槛效应

摘要:基于我国中低技术产业1996--2009年面板数据,结合GMM回归结果和技术差距理论,提出产业内进口中间品和产业外进口中间品的技术溢出均存在技术差距双门槛效应的假设,并用非线性动态面板门槛回归技术检验门槛效应的存在性和显著性.结果表明,产业外进口中间品不存在技术差距门槛效应,产业内进口中间品存在双门槛效应,且当中低技术产业全员劳动率低于2.61万元/年/人时,技术差距因素最有利于产业内进口中间品的技术溢出,暗示我国中低技术产业进口中间品的技术水平不高.

注:因版权方要求,不能公开全文,如需全文,请咨询杂志社

研究与发展管理

《研究与发展管理》(CN:31-1599/G3)是一本有较高学术价值的大型双月刊,自创刊以来,选题新奇而不失报道广度,服务大众而不失理论高度。颇受业界和广大读者的关注和好评。 《研究与发展管理》主要刊登科学技术发展及其应用方面的管理研究论文,面向大专院校、科研单位与企业的广大科技人员、科技管理人员、科技管理研究人员和有关专业的研究生,以及其他有关人员。

杂志详情