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可见光迷彩低红外发射率薄膜制备及其特性

作者:王丛 刁训刚 曹晔可见光迷彩低红外发射率薄膜制备infraredemissivity氧化层厚度多弧离子镀红外辐射率测量仪基底材料离子镀技术非镜面反射扫描电镜光光度计测试手段薄膜样品薄膜电阻近红外结合力多层膜粗糙度

摘要:采用多弧离子镀技术,在Al基底上制备了TiO2/TiN多层膜.通过控制基底材料的粗糙度使制备出的薄膜在可见波段具有非镜面反射效果.采用扫描电镜、红外辐射率测量仪、紫外-可见-近红外光光度计等测试手段对薄膜样品进行了表征.结果表明,采用多弧离子镀法在Al基底上制备了结合力良好、具有迷彩效果的低红外发射率薄膜.研究发现,随氧化层厚度增加,薄膜发射率趋向稳定(0.2左右).薄膜电阻随氧化层厚度的变化无明显变化.

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宇航材料工艺

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