作者：刘文琦; 何宜庆资本深化研发投资技术进步门槛效应
摘要：基于我国上市企业2011~2016年的面板数据,在考虑资本深化因素的基础上,本文采用门槛回归技术实证分析了研发创新对企业技术进步的非线性影响,并进一步揭示其异质门槛特征。结果表明:研发创新投入对企业技术进步的影响存在显著的门槛效应,其过程受限于资本深化程度的差异,资本深化程度不足和过度都会阻碍研发投入对技术进步的促进作用。另外,研发创新投入对企业技术进步的非线性影响存在明显的行业、所有制及区域异质性特征。因此,实施差异化的研发政策、提高研发资源管理能力及控制资本深化程度应是促进企业技术进步的有效措施。
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