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磁控溅射法制备NiCr/NiSi薄膜热电偶温度传感器

作者:贾颖; 孙宝元; 曾其勇; 徐静薄膜热电偶磁控溅射化爆材料切削温度

摘要:介绍了NiCr/NiSi薄膜热电偶制作方法与过程。与多孤离子镀法相比,采用磁控溅射法镀制的热电偶薄膜成分与靶材接近,膜层致密均匀、平整光滑,临界厚度薄。对研制的NiCr/NiSi薄膜热电偶进行了静态标定与动态标定,薄膜热电偶的灵敏度为40.1μV/℃,线性误差不大于0.75%,时间常数小于0.35ms.最后将薄膜热电偶温度传感器用于化爆材料模拟切削试验。

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仪表技术与传感器

《仪表技术与传感器》(月刊)创刊于1964年,由沈阳仪表科学研究院有限公司主管,沈阳仪表科学研究院有限公司主办,CN刊号为:21-1154/TH,自创刊以来,颇受业界和广大读者的关注和好评。 《仪表技术与传感器》主要报导仪器仪表、敏感元件及传感器、电子元器件、检测设备、自动化控制系统以及相关的工艺技术、应用技术等,是中国仪器仪表行业最具影响力的期刊之一。

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