作者：杨道虹; 徐晨; 董典红; 李兰; 吴畯苗; 张...mems红外探测器腐蚀键合光刻制作工艺
摘要：介绍了一种基于MEMS技术的新型室温中远红外波段硅基电容式红外探测器原理和制作工艺过程,并详细介绍了针对单面光刻机而采用的对准孔双面对准和键合对准技术、浓硼扩散EPW腐蚀停止技术制备超薄敏感硅膜以及薄膜的疏水处理等关键工艺.还对各环节所遇到的问题和其相应的解决方法进行了详细地阐述.
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《仪表技术与传感器》（月刊）创刊于1964年，由沈阳仪表科学研究院有限公司主管，沈阳仪表科学研究院有限公司主办，CN刊号为：21-1154/TH，自创刊以来，颇受业界和广大读者的关注和好评。 《仪表技术与传感器》主要报导仪器仪表、敏感元件及传感器、电子元器件、检测设备、自动化控制系统以及相关的工艺技术、应用技术等，是中国仪器仪表行业最具影响力的期刊之一。
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