作者：曾小安; 黄鹤; 张文; 王浩然; 刘赞; 邱长...纯cr涂层多弧离子镀弧电流sem形貌物相结构膜基结合力
摘要：采用多弧离子镀技术在锆合金表面制备了纯Cr涂层。利用扫描电子显微镜（SEM）、X射线衍射仪（XRD）和划痕仪分析了弧电流对纯Cr涂层表面形貌、物相结构以及膜基结合力的影响,并采用Image J图像处理软件对纯Cr涂层表面大颗粒分布进行统计和分析。结果表明,随着弧电流的增大,纯Cr涂层表面大颗粒尺寸先增大后减小,单位面积内大颗粒数目则先减少后增多,同时纯Cr涂层的择优生长趋势由（110）晶面变为（200）晶面,且纯Cr涂层与锆合金基材的膜基结合力先减小后增大。
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