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低氧分压下NiTi记忆合金的氧化行为

作者:邵明增; 赵旭; 杨洪波niti合金选择氧化低氧分压tio2

摘要:研究了NiTi形状记忆合金在H2-H2O气氛下400-700℃的氧化行为。合金的氧化过程遵循立方规律,氧化激活能127.52 kJ/mol。氧化显著降低了试样表面的Ni含量。400℃氧化的试样,其表面形貌与其他试样不同,并且氧化膜太薄,截面结构无法用SEM分析。500、600、700℃氧化的试样,表面有2种形貌的氧化物,一种是颗粒状氧化物,另一种是晶须状氧化物。截面分析表明,氧化膜分为两层,上层由TiO2构成,下层由Ni3Ti构成,两层界面处有孔洞生成。

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稀有金属材料与工程

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