HI,欢迎来到学术之家,发表咨询:400-888-7501  订阅咨询:400-888-7502  股权代码  102064
0

低介电常数纳米多孔二氧化硅薄膜的制备

作者:王娟; 张长瑞; 冯坚纳米多孔二氧化硅薄膜低介电常数粘度

摘要:以正硅酸乙酯为原料,采用溶胶-凝胶法、旋转涂胶和超临界干燥工艺在硅片上制备了纳米多孔SiO2薄膜.用近线性生长模型和分形生长模型研究了SiO2溶胶的粘度-时间曲线,确定了SiO2溶胶的结构演变过程.适合旋转涂胶的SiO2溶胶的粘度为9 mPa·s~15 mPa·s;旋转涂胶时SiO2溶胶的粒子尺寸与其浓度密切相关.该SiO2薄膜具有三维网络结构,表面均匀平整,SiO2微粒直径为10nm~20 nm.SiO2薄膜的厚度为400nm~1 000nm;折射率为1.09~1.24;介电常数为1.5~2.5.

注:因版权方要求,不能公开全文,如需全文,请咨询杂志社

稀有金属材料与工程

《稀有金属材料与工程》(CN:61-1154/TG)是一本有较高学术价值的大型月刊,自创刊以来,选题新奇而不失报道广度,服务大众而不失理论高度。颇受业界和广大读者的关注和好评。 《稀有金属材料与工程》反映稀有金属材料领域的科技成果,包括钛、难熔金属、贵金属、稀散金属和稀土金属等材料以及超导材料的机械、物理、化学性能及其加工工艺,稀有金属材料在航空、航天、舰船、军工、化工等部门的应用等。

杂志详情