作者：刘涛; 马垒; 周良; 赵世谦; 成钢fepd薄膜磁记录磁控溅射磁性能
摘要：采用直流磁控溅射法在石英玻璃基片上制备了L10-Fe51Pd49纳米颗粒膜,将其在500～700℃下进行不同时间的热处理,利用场发射高倍扫描电子显微镜（SEM）、X射线衍射仪（XRD）、振动样品磁强计（VSM）研究了热处理时间、温度对薄膜结构、形貌和磁性能的影响。结果表明,在600℃热处理温度下,随着热处理时间的增加,薄膜由面心立方（fcc）相向面心四方（fct）相转变,fct相的衍射峰逐渐增强,薄膜产生的孔洞随之扩大,膜面由制备态的连续分布转变为不连续的类岛状,并产生了分层,其矫顽力、剩磁比表现出先增大后减小的趋势,最大值分别为0.29 T,0.94。降低热处理温度至550℃,进行3 h的热处理后发现样品也能进行充分的fcc-fct相转变,矫顽力也能达到0.29 T,剩磁比为0.90。本研究有效降低了FePd合金的相转变温度。
注：因版权方要求，不能公开全文，如需全文，请咨询杂志社
