HI,欢迎来到学术之家,发表咨询:400-888-7501  订阅咨询:400-888-7502  股权代码  102064
0

大气压等离子体微射流阵列空间均匀性的纹影摄影研究

作者:郭飞; 张曼; 周孰能; 文莉大气压等离子体微射流阵列纹影摄影流场相互影响空间均匀性

摘要:大气压等离子体微射流阵列具有高电子密度、高效率、可进行无掩膜加工等特点,在材料处理和生物医学等领域有潜在的应用前景。然而由于阵列中相邻微射流间存在强烈相互影响以及射流与环境空气间的相互作用,等离子体微射流阵列存在着空间分布不均匀的问题。研究喷嘴尺寸为300μm的1×3微射流阵列,采用高速纹影摄影技术从流场角度研究工作电压和气体流速对微射流阵列的空间均匀性的影响。研究结果表明,等离子体放电会使得气流的层流长度明显变短,且施加电压越高时,阵列中侧向气流的偏转角越大,通入的气体流速增大时,偏转角随之减小。实验的结果有助于理解微射流阵列中射流间的相互影响机理,对于后续微射流阵列的应用研究具有重要的指导意义。

注:因版权方要求,不能公开全文,如需全文,请咨询杂志社

新技术新工艺

《新技术新工艺》(CN:11-1765/T)是一本有较高学术价值的大型月刊,自创刊以来,选题新奇而不失报道广度,服务大众而不失理论高度。颇受业界和广大读者的关注和好评。

杂志详情