作者：王益军; 严诚; 邓光绪; 李军国; 杨玲离子束辅助沉积微通道板附着力
摘要：分析了电子束沉积镍铬合金膜沉积的主要缺点，提出离子辅助电子束法沉积镍铬合金膜的新方法。利用氩离子辅助在微通道板表面沉积了镍铬合金膜，对比和分析了使用氩离子辅助沉积和电子束沉积薄膜的性质（附着力、致密性、表面电阻等）。结果表明，使用250eV的氩离子源辅助沉积的镍铬合金膜附着力好、结构致密、表面电阻低。
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