作者：程兆虎; 吴来发; 吴友坤; 刘伟; 陈树龙静置处理光谱检测
摘要：介绍了铁液静置处理对光谱检测w(C)量稳定性影响的研究方法:静置温度控制在1490~1510℃、1510~1530℃、1530~1550℃,静置时间分别为5 min、10 min、15 min,共设定9组试验,每组取样3次以上,每次同时浇注热分析试样、光谱分析样和白口薄片样各1组进行w(C)量的对比检测。试验结果表明:(1)铁液熔化的均匀性,直接影响到铸件的力学性能,铁液合适的静置处理对稳定铸件质量具有重要作用;(2)当静置温度控制在1510~1530℃、静置时间控制在10~15 min时,光谱检测w(C)量的稳定性最高,与C-S分析仪相比,检测误差最小。
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