O2/SF6混合气体对光刻胶的离子刻蚀研究

作者：郑载润; 郑云友; 侯智; 李正勳; 李斗熙离子刻蚀干法刻蚀灰化速率光谱

摘要：以O2＋SF6为刻蚀气体,在一定压力下使用RIE刻蚀机刻蚀光刻胶。通过改变功率、O2流量和SF6流量,研究以上因素的改变对光刻胶灰化速率的影响。实验结果表明：单组分O2存在下,O2流量的增加不会影响光刻胶的灰化速率。设备Plasma功率以及气体比率变化对灰化率有显著影响,并通过光谱分析对光刻胶的灰化反应机理进行了初步研究。

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