蒙砂玻璃的研制与吸光效应的表征

作者：李运涛; 许淑嫱; 谌建初; 李羽哲; 刘存海蒙砂玻璃蚀刻液透光率

摘要：对蒙砂玻璃研制的工艺技术做了研究,确立了蒙砂玻璃蚀刻液的组成和配比为NH_4F∶（NH_4）_2SO_4∶MgNH_4PO_4∶H_2SO_4∶H_2O=7.1∶1.2∶0.4∶4.5∶9.9,选择了玻璃蒙砂的优化工艺为：30℃水浴下加热,pH=2.0,蒙砂时间5min.对所研制的蒙砂玻璃进行了SEM和EDS测试,在最大吸收波长为580nm时,对吸光效应做了表征.结果表明,应用此技术研制的蒙砂玻璃,其吸光效应良好,透光率适宜,蒙砂均匀,表面光洁度高,为蒙砂玻璃的工业化加工提供了环保型可持续化生产途径.

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