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碳化硅基MOSFETs器件研究进展

作者:李金平; 王琨碳化硅功率器件阻断电压通态电阻

摘要:基于近20年的研发,宽禁带半导体材料碳化硅(SIC)的金属一氧化物一半导体场效应晶体管(MOSFETs)的制备工艺逐步成熟,性能不断提高,已有SiCMOSFETs产品进入市场,故综述双注入MOSFETs(DMOSFETs)和沟槽MOSFETs(UMOSFETs)两种结构的SiCMOSFETs的研究进展和发展趋势,并介绍SiCMOSFETs器件制备的关键工艺和目前推出SiCMOSFET产品的公司及其产品性能。

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西安邮电大学学报

《西安邮电大学学报》(CN:61-1493/TN)是一本有较高学术价值的大型月刊,自创刊以来,选题新奇而不失报道广度,服务大众而不失理论高度。颇受业界和广大读者的关注和好评。 《西安邮电大学学报》为满足本院师生和通信业科研、管理人员的学术交流需求,促进学院教学、科研水平的提高和我国信息产业的发展,主要刊登通信工程理论及技术、计算机理论及技术、信息产业发展中的经济管理理论以及相关基础理论研究和教育教学研究等方面的最新成果。

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