作者：司卫华; 董晓文; 顾文琪紫外线压印模版制作反应离子刻蚀
摘要：概述了紫外压印的原理及其优点,并通过对紫外压印模版特殊性的分析,提出了两种紫外压印模版的制作.用反应离子刻蚀法制作了玻璃模版,用浇灌法制作了聚二甲基硅氧烷(PDMS)模版,最后给出了实验过程和结果.实验表明,用反应离子刻蚀法可以制作出具有100 nm特征尺寸、图形的深度为50 nm的玻璃模版,而且通过控制刻蚀时间可以得到需要的图形深度.用浇灌法可以制作出具有100 nm特征尺寸、图形深度为145 nm的聚合物模版.
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