作者：李艳 张芳 陈辉 刘智波 代克杰石墨烯微纳加工光刻转移压印直写干涉
摘要：简单介绍了石墨烯独特的光电子性质，说明实现其在光电子器件中应用的有效方法是进行微纳加工。接下来对主要的石墨烯微纳加工技术——掩膜光刻、转移压印以及激光直写和干涉进行详细阐述，通过实例对每种加工技术的关键步骤和特点进行说明，并分析比较了不同加工技术的优缺点。然后对近期出现的转移压印辅助光刻和飞秒直写辅助转移压印技术的加工流程进行详细介绍，阐述将两种加工技术相结合应用于石墨烯微纳结构加工的优势。最后，简单展望了石墨烯微纳加工未来的发展趋势，指出需进一步研究的问题，对如何更好地实现石墨烯微纳结构的加工提出一些建议。
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