作者：薛舫时hfet电流崩塌二维电子气异质结构
摘要：讨论了Ⅲ族氮化物HFET中电流崩塌和沟道内二维电子气特性间的关联,提出了描述产生电流崩塌时电子动态运动的微观模型.栅延迟电流崩塌被归因于栅-漏电极间隙中表面态与其下沟道中的电子交换.异质结极化感应的表面电荷不稳定性和沟道中二维电子气的量子限制特性是决定电流崩塌的两个重要因素.应用这一微观模型解释了实验中观察到的电流崩塌现象.通过适当的异质结构优化设计可望研制出无电流崩塌的Ⅲ族氮化物HFET.
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