作者：刘艳; 董云杉; 岳建岭; 李戈扬外延生长非晶晶化力学性能
摘要：采用Zr靶和Al2O3靶通过在Ar，N2混合气氛中进行反应磁控溅射的方法制备了不同AlON调制层厚和不同ZrN调制层厚的两个系列的ZrN／AlON纳米多层膜．利用X射线能量色散谱仪、X射线衍射仪、高分辨透射电子显微镜和微力学探针研究了多层膜的成分、微结构和力学性能．结果表明，在Ar，N2混合气氛中对Al2O3进行溅射的过程中，N原子会部分取代Al2O3中的氧原子，形成AlON化合物．在ZrN／AlON纳米多层膜中，由于受到ZrN晶体调制层的模板作用，溅射条件下以非晶态存在的AlON层在其厚度小于0．9nm时被强制晶化并与ZrN层形成共格外延生长；相应地，多层膜的硬度明显提高，最高硬度达到33．0GPa．进一步增加多层膜中AlON调制层的厚度，AlON层形成非晶结构，破坏了多层膜的共格外延生长，导致其硬度逐步降低．
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