作者：乔峰; 黄信凡; 朱达; 马忠元; 邹和成; 隋...raman散射化学气相淀积激光辐照生长技术等离子体增强多层膜sio2电子衍射结晶原理
摘要：在等离子体增强化学气相淀积系统中，采用a-Si：H层淀积和原位等离子体氧化相结合的逐层生长技术制备了a-Si：H／SiO2多层膜．在激光诱导限制结晶原理基础上，使用KrF准分子脉冲激光为辐照源，对a—Si：H／SiO2多层膜进行辐照，使纳米级厚度的a-Si：H子层晶化．Raman散射谱和电子衍射谱的结果表明，经过激光辐照后纳米Si颗粒在原始的a-Si：H子层内形成，晶粒尺寸可以根据a-Si：H层的厚度精确控制．还研究了样品的光致发光(PL)特性以及激光辐照能量密度对PL性质的影响．
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