作者：李燕; 王成伟; 田军; 刘维民; 陈淼; 力虎...多孔氧化铝模板吸收边调制反射率调制纳米有序阵列电化学沉积工艺直接带隙半导体
摘要：对采用电化学沉积工艺制备的c。IAAO纳米线有序阵列复合结构的光反射和光吸收特性进行了研究，UVIVIs，NIR光谱仪测试结果表明，增加氧化铝模板孔洞中纳米线的长度或直径，ColAAO纳米有序阵列复合膜的吸收边大幅度红移(283—398nm)，可见至近红外波段反射率大范围可调(70％一6％)，实验发现这种变化更加敏感于直径·这种复合结构体系具有直接带隙半导体的光学特性．
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