作者：叶全林; 许晓军; 叶高翔磁性薄膜特性研究形成机理液相生长机制实验发现沉积速率薄膜样品内应力分布磁各向异性薄膜系统沉积方法基底温度生长模型有序结构特征尺寸应力释放临界温度尺寸分布原子团簇相互作用薄膜表面金属色
摘要：采用气相沉积方法在硅油基底表面成功制备了一种具有近似自由支撑的新型铁薄膜系统,并研究了其生长机制、内应力分布以及低温磁特性.实验发现,此类铁薄膜的生长机制与沉积在液相基底表面非磁性薄膜的情况类似,即服从二阶段生长模型.在固定基底温度的条件下,当沉积速率较小时,可制得近似透明的连续铁薄膜,薄膜中呈现明显的特征尺寸达102μm数量级的带状准周期有序结构,它是由铁薄膜样品中内应力释放时所引起的薄膜板块间相互挤压而逐渐形成的.当沉积速率较大时,制得的连续铁薄膜呈金属色.实验发现,在临界温度Tc =10-15K附近,具有金属色的铁薄膜样品的矫顽力Hc有一明显的极大值峰.研究表明,这一奇异的矫顽力特性与液相基底表面铁薄膜中的原子团簇尺寸分布、无序的薄膜表面磁各向异性以及团簇间的磁性相互作用等因素有关.
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