作者：王东氧化锡喷雾热分解四氯化锡三氯化锑
摘要：以四氯化锡和三氯化锑为原料,采用喷雾热分解的方法在片状日用玻璃基材和石英玻璃基材上制得掺锑氧化锡(ATO)透明导电薄膜.运用XRD和SEM分别对薄膜的结构和形貌进行了表征.研究了锑的掺杂量、成膜温度和沉积时间对薄膜方阻和在可见光范围内的平均透过率的影响.实验结果表明,当三氯化锑的掺杂量为四氯化锡的8%(物质的量分数)、成膜温度为550℃、喷涂时间为12 s时,可使所得薄膜的方阻达最低,为40Ω/□,可见光范围内的平均透过率为70%.
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