作者：裴小科; 林碧洲; 张进飞; 李真; 韩国华; ...柱撑催化氧化物质的量单分子层嵌入催化活性层间距mos2比表面积二硫化钼
摘要：本文采用单分子层技术将聚合羟基铝簇离子嵌入到二硫化钼板层间,得到层间距为1.481至1.519 nm的柱撑二硫化钼复合材料.XRD、DSC等研究表明,柱化液的滴加浓度越稀、柱撑反应体系中Al:MoS2物质的量之比越小越有利于获得层间距较大的柱撑材料.与原料2H-MoS2相比,柱撑材料的层间距增大,颗粒度变小,比表面积增加.在氧气条件下,对Na2S的催化氧化实验表明,柱撑材料较原料2H-MoS2的催化氧化活性提高3～4倍,且光催化活性大于催化活性.这与柱撑材料的比表面积增加所导致催化活性部位的增多,以及光致电子-空穴对的产生有关.
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