作者：王涛; 杨茂文; 李艳琼; 程莉莉; 王升高; ...二氧化硅膜正硅酸乙酯微波等离子体化学气相沉积法表面反应
摘要：以正硅酸乙酯为原料，利用微波等离子体化学气相沉积法在低温条件下在Si基片上制备了SiO2膜，着重研究了正硅酸乙酯注入位置对SiO2膜结构的影响．实验表明，在利用等离子体化学气相沉积法制备SiO2膜时，表面反应是低温条件下获得高质量膜的重要条件之一；同时射频偏压的使用有利于提高膜的致密度．
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