作者：张楷亮; 宋志棠; 封松林; CHEN; Bomy化学机械抛光平坦化薄膜特大规模集成电路抛光液
摘要：随着半导体行业的飞速发展,集成电路特征尺寸的微细化,半导体薄膜表面的高平坦化对器件高性能、低成本、高成品率有着重要的影响.作为唯一能实现全局平坦化方法的化学机械抛光(CMP),近年来发展迅速,应用广泛.文章综述了化学机械抛光技术的发展现状:包括化学机械抛光设备、抛光液、抛光机理模型及应用研究进展;在此基础上,对CMP下一步发展的方向及其应用前景进行了展望.
注：因版权方要求，不能公开全文，如需全文，请咨询杂志社
