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直拉硅单晶宽面控制工艺研究

作者:史继祥; 韩焕鹏宽面拉晶速率初始埚位

摘要:探究了影响偏离〈111〉晶向硅单晶晶体宽面的主要工艺因素,通过不同的晶体生长工艺参数设定来进行〈111〉晶向硅单晶生长试验,通过对比不同工艺参数对晶体宽面的影响,最终确定了控制单晶宽面的最优工艺,获得了外形大幅优化的〈111〉晶向硅单晶.

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天津科技

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