作者:宋波 刘永强 郭晶丽 房正薇 白雪合成光谱性能稳定性双菁染料方酸
摘要:以苯肼和对肼基苯磺酸为原料合成了一种水溶性对称吲哚方酸双菁染料。最终染料用C-18反相柱进行分离提纯,通过核磁共振氢谱对染料结构进行了表征,测试其在不同溶剂中的紫外一可见吸收和荧光发射光谱。结果发现所合成双菁染料的吸收和发射光谱范围以及Stokes位移、摩尔消光系数与单菁染料相比没有大的变化,荧光量子产率小于单菁染料。
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