施工工艺半导体设备氧化物材料溶液沉积透明导电沉积工艺工艺参数反射结构
摘要：201107125光伏设备用溶液沉积、设备和以氧化物电沉积的底材：以液体沉积工艺将一种金属氧化物材料如透明导电氧化物材料电沉积于底材上。控制工艺参数使材料形成高质量沉积层，可适用于高效光伏设备的背面反射结构。沉积可结合遮蔽膜进行，这种操作可以使金属氧化物材料限定沉积于底材的指定区域。在特殊情况下，沉积可用连续的卷对卷方式进行。还公开了半导体设备和由该工艺制备的半导体设备组件以及用于实施该工艺的设备。
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