抛光剂胶体二氧化硅抛光工艺组合物铁离子浓度过氧化氢磷酸盐ph值
摘要：抛光组合物及抛光工艺 提供了一种特别适用于抛光含钨晶片的抛光组合物及采用该抛光组合物的抛光工艺。本发明抛光组合物含胶体二氧化硅、过氧化氢，较好的还含有磷酸或磷酸盐。抛光组合物的pH值是1～4，抛光组合物的铁离子浓度最多是0．02×10^-6.
注：因版权方要求，不能公开全文，如需全文，请咨询杂志社
《涂层与防护》（CN：32-1879/TQ）是一本有较高学术价值的大型月刊，自创刊以来，选题新奇而不失报道广度，服务大众而不失理论高度。颇受业界和广大读者的关注和好评。 《涂层与防护》承载了从创刊以来的历史积淀、结合了现代媒体发展的特点，是顺应时展趋势、实现媒体融合发展的具体举措，为开创媒体多元化发展打下坚实基础！
北大期刊、统计源期刊、CSCD期刊
人气 20868 评论 47
部级期刊
人气 17409 评论 56
人气 11827 评论 43
人气 10968 评论 47
