作者：聂建华; 姜晟; 文晋; 蔡曼菲; 梁永和; 尹...氧氮化硅二氧化硅源高温氮化
摘要：以单质Si和不同的二氧化硅（SiO2含量分别为99．999％的高纯石英玻璃、99．70％的分析纯二氧化硅、99．14％的工业石英、97．67％的微硅粉）为原料，于1460℃下高纯氮气中反应合成Si2N2O，用XRD、SEM和TEM等方法研究了合成产物的相组成和形貌特征。结果表明：不同的二氧化硅源高温氮化合成的试样中Si2N2O的含量均达到91％以上；合成的试样中Si3N2O的形貌均为柱状或片层状，合成试样中Si2N2O的各元素的原子比也接近Si2N2O的理论原子比。
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