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交流阻抗技术研究巯基丙酸/中性红修饰电极上DNA的响应

作者:顾海芳; 尹凡; 屠一锋交流阻抗巯基丙酸中性红dna嵌插作用

摘要:中性红(NR)可吸附在巯基丙酸自组装修饰金电极表面,并进而与DNA发生嵌插作用。以交流阻抗技术研究了DNA在巯基丙酸自组装,中性红修饰电极上的响应。结果表明,交流阻抗方法不仅可以反映DNA与小分子间发生的作用,还可以对DNA进行定量分析,响应在DNA浓度为0.4-8mg·L^-1范围内呈线性关系,相关系数r=0.9973,检出下限为0.03mg·L^-1。该法是一种快速、简便、廉价的研究DNA及与小分子相互作用的方法。

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苏州科技大学学报·自然科学版

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