硬磁盘基片研磨的运动分析

作者：冯连东; 吕玉山; 哈兰涛硬盘基片运动分析去除率磁头计算机设备

摘要：分析了在硬磁盘基片研磨过程中的运动状况.建立了行星式研磨机的运动学模型.基于这个模型利用蒙特卡罗法分别对磨料切削轨迹、切痕方向的变化、基片表面的瞬态速度场和平均相对速度场等进行了数值模拟,并根据模拟结果研究讨论了在研磨中运动参量对基片表面的材料去除率(MRR)的分布均匀性、表面纹理和其它的质量因素等的影响规律.

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