作者：佘希林; 宋国君; 王树龙; 孙峋; 李建江; ...紫外光刻图案化聚苯乙烯一维纳米结构阵列
摘要：采用紫外光刻技术对阳极氧化铝（AAO）模板进行图案化，再采用AAO模板物理浸润技术，以聚苯乙烯（PS）溶液浸润图案化的AAO模板，制得图案化的PS一维纳米结构阵列；采用扫描电子显微镜对图案化的AAO模板和PS一维纳米结构阵列进行表征。表征结果显示，通过紫外光刻技术，可以制得有清晰图案的AAO模板，模板上有直径为5μm的圆形图案，圆形图案间的距离也为5μm；以质量分数10．0％的PS溶液侵润图案化的AAO模板，当光刻胶用量为0．2mL时能得到图案化的PS一维纳米结构阵列；当光刻胶用量为0．3mL时，只能制得光刻胶的纳米结构阵列，不能制得图案化的PS一维纳米结构阵列。
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