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响应面法优化芳纶纤维表面原位合成纳米SiO2粒径工艺的研究

作者:胡文静; 陆赵情; 谢璠对位芳纶短切纤维原位生长纳米sio2响应面法纳米粒径

摘要:采用响应面法中的Box-Behnken中心组合设计(BBD),研究了对位芳纶短切纤维表面原位生长纳米SiO2粒径尺寸的最佳工艺条件,并考察了无水乙醇(以g表示)、纯水、氨水、TEOS四个因素对生长的纳米SiO2粒径尺寸的影响,建立了相关的数学回归模型.实验结果表明:各因素对纳米SiO2粒径影响的显著性顺序为纯水(B)〉乙醇(A)〉氨水(C)〉TEOS(D);优化后的最佳工艺参数为:乙醇276.42 g,纯水43.2 g,氨水18.75 g,TEOS为62.5 g,得到纳米SiO2粒径尺寸为294.8 nm,此时纤维表面的纳米SiO2生长良好,致密均一,与模型的预测值基本相符.

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陕西科技大学学报

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