作者：杜晓濛 田向荣 李菁 石进校脱水与复水叶绿素荧光光响应曲线光化学猝灭系数非光化学猝灭系数
摘要：以来自不同水分生境的金发藓（Polytrichum commune）和湿地匐灯藓（Plagiomnium acutum）为材料,利用叶绿素荧光成像技术比较了脱水和复水过程中两种藓类的荧光光响应曲线、光系统Ⅱ光能转化效率（ratio ofchlorophyll variation fluorescence,Fv/Fm）、光系统Ⅱ光量子产量（quantum yielding of PSⅡ,Y（Ⅱ））、光化学猝灭（photochemical quenching,qP）和非光化学猝灭（none-photochemical quenching,NPQ）的变化.结果显示,在脱水过程中,金发藓的抑制光强可维持在800μmol/（m2.s）以上,而湿地匐灯藓可低至400μmol/（m2.s）左右;金发藓ETR（electron transportation rate）值始终可维持在20附近,而湿地匐灯藓可降至0;两种藓类的Fv/Fm、Y（Ⅱ）、qP均下降,但金发藓较湿地匐灯藓高;NPQ先升后降,金发藓的峰值早于湿地匐灯藓,而幅度低于湿地匐灯藓.在复水过程中,两种藓类抑制光强和ETR均迅速恢复后略有下降,金发藓的恢复较湿地匐灯藓慢但波动小;两种藓类Fv/Fm和Y（Ⅱ）均能恢复到正常水平,金发藓均高于湿地匐灯藓;两种藓类qP略有上升,NPQ则略有下降.说明藓类植物对脱水伤害的耐受能力主要体现在复水的修复能力上,而脱水持续和程度会对不同生境的藓类产生不同的胁迫效应.从光保护能力的角度来看,生活于易产生水分亏缺条件下的金发藓比生活在水分充沛条件下的湿地匐灯藓具有更强的脱水耐受能力.
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