作者：赵长松; 贺建芸; 谢鹏程; 李嘉维; 杨卫民光扩散膜光固化微压印光化学制造微结构
摘要：介绍了一种新的微压印工艺,采用光固化微压印代替传统的成型方法进行微结构光扩散膜的制备,研究了制备工艺对微结构扩散膜的影响,探索了不同压力(分别为1.5、2、2.5、3、3.5N时)对光扩散膜微结构复制度的影响。当压印压力为3N时,微结构单元完整性良好,微结构复制度较高;探索了辐照时间(分别为3、4、5、6s时)对光扩散膜微结构复制度的影响。当辐照时间为6s时,光扩散膜微结构复制度良好;将预聚物百分比对光扩散膜透光率的影响进行了实验分析,在实验条件范围内,随着预聚物的百分比增大,制品透光率呈降低趋势。光固化微压印能够满足微结构光扩散膜批量化生产的要求,且相应的生产设备造价较低,降低了微结构光扩散膜的制作成本。
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