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一种能够提高密度和曝光率的行距配置

作者:李富贵; 梅桂萍; 陈旺; 杨建平曝光率行距配置棉花地膜栽培

摘要:随着地膜棉花在生产中的推广应用,早、密、矮、匀的技术路线进一步被广大棉农户所认识.人们围绕理论单位面积株数,均匀度及地膜宽度,设计出了各种地膜棉花的行距配置,用于提高棉花理论株数及曝光率.从铺0.6米宽度的地膜已经发展到了最宽能铺2.55米宽度的地膜,行距配置1膜8行.

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石河子科技

《石河子科技》(CN:65-1162/N)是一本有较高学术价值的大型双月刊,自创刊以来,选题新奇而不失报道广度,服务大众而不失理论高度。颇受业界和广大读者的关注和好评。 《石河子科技》属地方性自然科学综合期刊。其刊稿内容函盖理、工、农、医等专业,编委会由本地各学科学术带头人组成。其宗旨是反映石河子科研,技术现状,交流科研,技术工作经验,介绍实用技术,普及科技知识,为石河子科技、经济的发展提供服务。

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