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65nm体硅CMOS工艺器件尺寸对其脉冲削减效应的影响

作者:李鹏 赵振宇 郑超 张民选电荷共享脉冲削减双极放大电路级模拟

摘要:利用电路级模拟方法,在65nm体硅CMOS工艺条件下研究了器件尺寸对其脉冲削减效应的影响.结果表明,当被动反相器的尺寸改变时,脉冲削减效应的变化趋势与其内部双极放大效应的强弱有关.在双极放大效应较强时,脉冲削减效应随尺寸的增加而增强;反之,则其脉冲削减效应随尺寸的增加而减弱.

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上海交通大学学报

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