微等离子体氧化技术制备陶瓷膜研究进展

作者：蔡宗英; 张莉霞; 邢献然; 李运刚陶瓷膜制备原理耐高温新工艺电绝缘原位生长耐腐蚀微等离子体氧化表面耐磨

摘要：微等离子体氧化技术是一种直接在有色金属表面原位生长陶瓷膜的新技术.用此技术制备的陶瓷膜具有优良的耐腐蚀、耐高温冲击、耐磨和电绝缘等特性.在此文中,介绍了微等离子体氧化技术的发展历史、陶瓷膜的特性及制备原理与工艺,指出微等离子体氧化技术是制备陶瓷膜的一种新工艺,并予以前景展望.

注：因版权方要求，不能公开全文，如需全文，请咨询杂志社