作者：唐云; 罗海辉; 谭灿健; 彭新华pvd磁控溅射al膜靶材
摘要：介绍PVD的原理,描述PVD设备的结构原理和性能参数,通过实验研究了PVD镀Al膜的工艺,分析了磁控溅射中溅射时间、溅射功率、靶基距、溅射温度和靶材对最终Al膜质量的影响,为实际应用中参数设置和工艺改进提供了参考。
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《设备管理与维修》（CN：11-2503/F）是一本有较高学术价值的大型半月刊，自创刊以来，选题新奇而不失报道广度，服务大众而不失理论高度。颇受业界和广大读者的关注和好评。 《设备管理与维修》行业覆盖（读者群）：机械、化工、轻工、建材、冶金、电子、纺织、地矿、电力、煤炭、铁道、交通、石化、航空航天、有色金属、船舶、汽车、军工等领域。
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