作者：刘安强; 李钢; 袁建鹏; 王玉磁控溅射tialn薄膜显微组织盐雾试验电化学特性
摘要：采用非平衡磁控派射技术在Q235钢和单晶硅基片上制备了 TiAlN薄膜,并利用场发射扫描电镜（FESEM）、 纳米力学探针、划痕测试仪对薄膜的微观组织结构和力学性性能进行研究;采用盐雾试验和电化学极化测试技术 研究了薄膜在含Cl-环境中的腐蚀行为与电化学特性.结果表明,随着N2流量的升高,TiAlN薄膜的硬度和弹性 模量先升高后迅速降低,当N2流量为10sccm时,薄膜具有最高的硬度和结合力,分别为30.7GPa和44.2N.盐 雾试验240h后,N2流量为10sccm时的TiAlN薄膜表面腐蚀最轻微,表现出了良好的抗盐雾腐蚀性能;电化学 测试结果表明,在3.5%NaCl溶液中,N2流量为10sccm时TiAlN薄膜腐蚀电流密度最小,仅为1.38×104m A cm -2, 约为N2流量为16sccm 时薄膜的1 /4 ,表现出优异的耐腐蚀性能.
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