作者：邵明增; 杨洪波表面状态低氧分压氧化niti
摘要：研究了不同表面状态（分别通过电解抛光、机械抛光、砂纸打磨和喷砂得到）的Ni Ti记忆合金试样在500℃、H2-H2O气氛下氧化10 h的氧化行为。通过热重天平、X射线衍射、扫描电镜、能谱研究了合金的氧化动力学、氧化膜的相组成、形貌和成分。结果表明：不同表面状态的NiTi记忆合金在H2-H2O气氛下氧化都遵循立方规律。表面状态对氧化膜形貌和成分的影响显著。电解抛光和喷砂试样氧化膜有剥落和开裂;机械抛光试样以及砂纸打磨的试样形成了致密完整的氧化膜。
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