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苏州纳米所在增强型GaN HEMT器件研究方面取得进展

hemt器件增强型纳米苏州高电子迁移率二维电子气异质结界面

摘要:由于GaN具有大禁带宽度、高电子迁移率、高击穿场强等优点,GaN HEMT成为新一代功率器件研究的热点。由于极化作用,AlGaN/GaN异质结界面会形成高浓度的二维电子气,浓度可达到1013/cm2量级,因此一般的GaN HEMT都是耗尽型器件。

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人工晶体学报

《人工晶体学报》(CN:11-2637/O7)是一本有较高学术价值的大型月刊,自创刊以来,选题新奇而不失报道广度,服务大众而不失理论高度。颇受业界和广大读者的关注和好评。

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