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人工晶体学报 2004年第05期杂志 文档列表

CsB3O5（CBO）晶体生长和形貌研究第695-698页

关键词: 硼酸铯；  晶体生长；  籽晶浸没法；  形貌；  晶体旋转速度；  降温速率；  

富锂熔体中提拉法生长近化学计量比铌酸锂（LiNbO3）晶体第699-702页

关键词: 富锂熔体；  提拉法；  晶体生长；  化学计量比；  铌酸锂晶体；  单畴；  

REBa2Cu3O7-δ／MgO液相外延生长初始阶段的物理化学研究第703-711页

关键词: 稀土金属超导体；  氧化镁；  rebco；  液相外延生长；  初始阶段；  物理化学；  晶粒粗化机制；  

用热壁CVD法在SiC衬底上生长SiCGe合金的热场分析与设计第712-716页

关键词: 碳化硅；  碳硅镓化合物；  温度场；  优化设计；  热壁化学气相沉积法；  感应加热；  有限元；  石墨厚度；  感应线圈数；  半导体材料；  

一种新型三维包结物的合成和晶体结构第717-721页

关键词: 三维夹心配合物；  包结物；  合成；  晶体结构；  六氰合钴酸钾；  五水硫酸铜；  乙二胺；  氢键；  

β-BBO薄膜的液相外延生长第722-725页

关键词: 液相外延生长法；  单晶薄膜；  非线性光学材料；  倍频效应；  

大面积B掺杂CVD金刚石膜的制备研究第726-730页

关键词: 硼掺杂；  金刚石膜；  制备；  化学气相沉积法；  电阻率；  

High-k材料研究进展与存在的问题第731-735页

关键词: 介电常数；  势垒高度；  热稳定性；  薄膜形态；  界面质量；  栅介质材料；  半导体材料；  

纳米晶体光催化剂降解染料废水的最新研究进展第736-740页

关键词: 纳米晶体光催化剂；  废水降解；  染料废水；  反应条件；  表面改性；  

环境条件对Bridgman法晶体生长过程的影响第741-746页

关键词: 环境条件；  bridgman法；  晶体；  生长过程；  温度梯度；  换热系数；  底部冷却；  

快速退火对大直径CZSi单晶中原生微缺陷的影响第747-750页

关键词: 快速退火；  原生微缺陷；  流动图形缺陷；  原子力显微镜；  直拉硅单晶片；  

BiB3O6晶体最佳生长方向的确定第751-754页

关键词: 三硼酸铋晶体；  晶体生长；  热膨胀；  非线性光学晶体材料；  生长方向；  

退火效应对MOCVD生长的ZnO薄膜的影响第755-757页

关键词: 退火效应；  氧化锌薄膜；  光电特性；  x射线衍射；  光致发光谱；  金属有机化学气相沉积；  

凝胶燃烧制备中温固体电解质La0．9Sr0．1Ga0．8Mg0．2O3-δ第758-761页

关键词: 凝胶燃烧法；  制备；  中温固体电解质；  镓酸镧基固体电解质粉体；  lsgm；  

金属有机分解法制备无铅K0．5Bi0．5TiO3铁电薄膜第762-764页

关键词: 金属有机分解法；  制备；  无铅铁电薄膜；  结构；  结晶性；  绝缘性能；  存储性能；  kbt；