作者：薄鑫涛表面工程技术空心阴极离子镀磁控溅射离子镀离子束辅助沉积pvd物理气相沉积等离子体加热方式
摘要：PVD（Physical Vapor Deposition）物理气相沉积是一种真空条件下采用物理方法,将固体或液体材料表面气化成气态原子、分子或部分电离成离子,并通过低压气体（或等离子体）过程,在基体表面沉积具有某种特殊功能薄膜的技术。主要方法包括真空蒸镀（加热方式有电阻、电子束、激光、离子束和高频感应等加热）、溅射沉积（2-3-4极、磁控、射频磁控和离子团束等溅射沉积）、离子镀（电阻加热离子镀、空心阴极离子镀、多弧离子镀、磁控溅射离子镀、离子束辅助沉积、反应离子镀和离子团束沉积等）.
注：因版权方要求，不能公开全文，如需全文，请咨询杂志社
