作者：刘进 章林文 施将君 刘军质子照相成像系统透镜系统磁透镜消除作用系统使用图像品质平均能量能量特性模拟结果质子束运动学核反应分析表能谱程序
摘要：为了解成像磁透镜系统使用对提高质子照相品质的作用,研究了成像磁透镜系统对核反应产生的次级质子的消除作用.利用MCNPX模拟了次级质子的能谱,结果表明:次级质子的平均能量不足照相质子束的50%.从次级质子的能量特性和成像系统质子运动学方面的分析表明:成像磁透镜系统可消除次级质子的影响.利用程序MCNPX对含成像磁透镜系统的质子照相进行了模拟,结果显示:成像磁透镜系统将次级质子对光程的影响减小到2%以下,显著提高了图像品质.
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