光刻技术与电化学相结合的叉指微电极制备工艺研究

作者：毕洪梅; 史国滨; 陈志诚; 何先维光刻技术电化学共平面叉指微电极

摘要：将光刻技术与电化学技术相结合，以AM175型光敏胶为光刻材料，以氧化铟锡（ITO）导电玻璃为基底，摸索与控制实验条件，优化光刻过程的工艺实验参数，实现了共平面的20～200μm的叉指微电极制备．优化的关键工艺参数为365nm的紫外光曝光时间2s，超声清洗7s，碱液Na2CO3浓度为1．5％．以6mol／LHCI溶液为腐蚀液，-2．5V的恒电位法腐蚀裸露ITO40s．采用原子力显微镜（AFM）测定微电极的导电层厚度约为160nm，表面粗糙度～2．5nm．该制备方法操作简单快速、腐蚀效果好、侧蚀程度小等优点．

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