作者：陈俊红; 王福明; 刘瑞斌; 孙加林硅灰氮化硅氧氮化硅
摘要：将硅灰（W（SiO2）=94．5％，平均粒度0．08μm）和氮化硅（粒度≤0．074mm）按1：1质量比混合后成型，在空气中埋炭条件下分别经1300℃、1450℃、1500℃、1550℃、1600℃处理3h后水冷，对其显微结构及物相进行了分析。结果表明：在1550℃以上，以硅灰和氮化硅为原料反应生成Si2N2O比较明显，氮化硅颗粒的边角变得圆滑，而且分布在含Si2N2O的连续胶结相中，形成胶结相包裹Si3N4的致密结构；1500℃以下，氮化硅仍然棱角分明，基本上未形成Si2N2O，只是硅灰中的SiO2析晶，析晶比较显著的温度为1300℃。
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