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高分辨率涂布显影工艺改善研究

作者:江涛; 彭亮亮; 刘超; 郭维兵; 庄恩泽; 金...解像力薄膜晶体管光刻胶显影液

摘要:目前TFTLCD市场对产品像素密度(PPI)要求越来越高,开发新的高PPIMobile产品对于平板企业而言,边效增加会获得更大的利润。实现高PPI,需要更细的线宽和更窄的间距,这些都受到光刻设备解像力的限制,本文对涂布显影工艺及材料进行了一些可行性研究。本文首先介绍了影响分辨的主要因素,然后针对这些因素提出了改善分辨率的方法,结合影响分辨率的因素和先进的光刻技术提出一个优化的光刻工艺组合方案。从多个方面人手分析改善措施,可以得出切实可行的解决High PPI带来的相关问题,为High PPI产品顺利量产提供有力保障。

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名城绘

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